HCL等腐蚀性气体被广泛用户各类化工合成的原料，由于其含水后会有腐蚀性,腐蚀装备并发生副反应，很多场合要求水分含量在10 ~ 200ppm。本装置具有以下特性：真空深度再生,产品含水低,外置循环冷却，内置热超导管进行加热，可以大幅减少氮气消耗，系统全自动程序化运行。
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